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产品技术
泛半导体
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积（CVD）系统采用自主研发的反应腔室和电气软件集成化服务，在逻辑、存储、先进封装、显示器件等芯片制造领域具有广泛应用，可满足多种功能性薄膜沉积工艺的开发和应用需求。搭载新型平台可安装更多反应腔以满足高产能需求。
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产品特点
高精度压力调节控制技术，提高薄膜阶梯覆盖率
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可以控制膜的成份和结构，满足多元掺杂工艺需求
2
自主研发高精度制程边缘控制技术，减少晶圆去边，提高晶圆利用率
3
带ESC多区加热陶瓷盘，可以实现高温工艺，减少背面沉积，避免等离子体损伤
4
自主设计的多区域吹扫功能，减少颗粒污染，延长清洗周期
5
多区域温度控制设计，温度控制精度高，薄膜均匀性好
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