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iOptomic 系列原子层沉积系统
iOptomic系列原子层沉积系统采用尊龙凯时纳米设计的等离子源,反应腔设计,结合先进的ALD镀膜沉积技术,可为晶圆、玻璃、塑胶等各种异形的基底表面沉积保形和均匀的薄膜,搭配专业的膜系设计来实现不同产品的光学性能。该系统具备载物台旋转、兼容静/动态、等离子体等功能,适用于各类光学摄像头,AR/VR光学透镜及精密光学元器件的工业化批量生产。
销售邮箱
iacsale@ybblf.com
产品特点
优异的等离子体控制系统,灵活兼容Thermal ALD和PEALD工艺
1
多区加热系统确保反应温度的均匀性和稳定性,实现低温沉积均匀、优质的薄膜
2
精准制备TiO₂、SiO₂、Al₂O₃等光学薄膜,精准控制各层光学参数与厚度
3
AR产品:搭配后处理,可实现超低反射率<0.1%(可见光420~680nm波段)
4
高载片量:根据产品进行载具定制,提升效率与降低生产成本
5
前台热线:
0510-81975900
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